Canon выйдет на рынок оборудования для производства передовых чипов
Известная своими камерами и принтерами японская компания Canon представила решение, которое поможет в производстве самых современных полупроводниковых компонентов. Об этом сообщает CNBC.
Система наноимпринтной литографии (NIL) от фирмы призвана бросить вызов оборудованию нидерландской компании ASML, которая доминирует в секторе EUV-технологии.
Установки от ASML используются в производстве самых передовых чипов вроде 3-нм процессоров A17 Pro для iPhone 15 Pro и Pro Max от Apple, способных обрабатывать запросы искусственного интеллекта.
Производящая этот CPU тайваньская компания TSMC, как и южнокорейский концерн Samsung, анонсировали серийный запуск 2-нм чипов в 2025 году.
В процессе литографии машины ASML используют жесткое ультрафиолетовое излучение. В Canon отметили, что их установка не требует света с определенной длиной волны, что снижает энергопотребление.
Японская фирма разрабатывает свою NIL-технологию с 2004 года.
По словам эксперта из индийского Институт Такшашила, этот подход за время своего существования не получил распространения в производстве сложных чипов. Частично это связано с успехами в сегменте EUV-машин вроде ASML.
В Canon утверждают, что их установка FPA-1200NZ2C способна производить полупроводники по техпроцессу 5 нм и может масштабироваться до 2 нм.
Оборудование для производства современных чипов втянуто в технологическую битву между США и Китаем из-за критического характера полупроводниковых компонентов для таких областей, как ИИ или военные приложения.
Соединенные Штаты, посредством экспортных ограничений и различных санкций, стремятся отрезать Китай от ключевых чипов и производственного оборудования, сдерживая вторую по величине экономику мира в технологиях, в которых она уже считается отстающей.
Правительство Нидерландов запретило ASML экспорт EUV-оборудования в КНР. Canon не ответила CNBC на запрос о возможных поставках NIL-машин в страну.
Тем не менее китайский производитель Huawei в прошлом месяце выпустил новый смартфон с 7-нм чипом, что считалось чрезвычайно трудным без решений от ASML. Это вызвало в Вашингтоне вопросы о том, как это возможно, и вновь привлекло внимание к экспортным ограничениям.
Напомним, в Китае анонсировали планы строительства крупных предприятий для производства ИИ-чипов в обход санкций США.